Fundamentos da formação de plasma

O princípio básico da formação de plasma envolve a matéria aquecida o suficiente para ionizá -lo, dissociar elétrons de átomos ou moléculas para formar elétrons livres e íons carregados positivamente.

1.1 Theamento: Uma substância é aquecida a uma temperatura suficientemente alta. Temperaturas altas podem ser fornecidas na forma de choque elétrico, luz de alta energia ou calor.

1.2ionização: A alta temperatura faz com que os átomos ou moléculas da substância ganhem energia suficiente para causar ionização. Nesse processo, elétrons ligados a átomos ou moléculas são dissociados para formar elétrons livres e íons carregados positivamente.

1.3 Neutralidade elétrica: No plasma, elétrons, íons e átomos neutros colidem e interagem entre si, mantendo a neutralidade elétrica geral.

1.4 Substituição e estrutura de si mesmo: O plasma é auto-sustentável, ou seja, elétrons e íons se movem livremente sob a ação do campo elétrico sem força motriz externa. Depois que o plasma é formado, várias estruturas podem ser formadas, como nuvem plasmática, feixe de plasma, etc. Essas estruturas desempenham um papel importante na física e aplicações de plasma.

O plasma existe tanto na natureza quanto em laboratórios, como plasma solar, plasma de chama, plasma de descarga, etc. Due suas propriedades físicas únicas, o plasma possui uma ampla gama de aplicações nas áreas de física plasmática, pesquisa de fusão nuclear, fabricação de semicondutores, iluminação, processamento de plasma e medicina de plasma.

2.1 Pesquisa física: As nuvens de plasma de alta densidade podem ser usadas para estudar as propriedades e comportamentos físicos do plasma, como a interação de elétrons e íons em plasma, aquecimento e transporte de partículas, flutuações plasmáticas, etc. Os estudos são de grande significado para a compreensão dos princípios básicos da física plasmática e para o desenvolvimento de novos.

2.2Plasma processing: High-density plasma clouds can be used for plasma processing, such as plasma etching, plasma deposition, and plasma polymerization.Plasma processing is a commonly used material processing technology, which can be precisely controlled at the micro-nano scale, and is used to prepare microelectronic devices, optical devices, biochips, etc.

2.3 PESQUISA DEFUSÃO: As nuvens de plasma de alta densidade também são importantes para o estudo da fusão nuclear. Em experimentos de fusão nuclear, o plasma de hidrogênio precisa ser aquecido a uma alta temperatura e mantido em alta densidade para atingir as reações de fusão nuclear.

Em suma, o uso de nuvens de plasma de alta densidade pode realizar experimentos e aplicações nos campos da pesquisa de física plasmática, processamento de plasma e pesquisa de fusão nuclear e promover o desenvolvimento da ciência e tecnologia de plasma.

Na explosão do túnel, a nuvem de plasma do metal pode criar uma diferença de potencial. Isso ocorre porque, durante uma explosão ou alta corrente, uma grande quantidade de carga se move através do metal, causando uma diferença de potencial.

3.1 Agradecemos: Ao conectar a nuvem de plasma de metal ao solo, a carga pode ser liberada no solo e a diferença de potencial pode ser reduzida.

3.2 Escudo e isolamento: use materiais isolantes para proteger e isolar a nuvem de plasma metálico para isolá -lo de outros objetos e do ambiente, reduzindo a propagação de possíveis diferenças e o risco de descarga.

3.3 Gerenciamento de potência: Na explosão do túnel, o gerenciamento razoável da fonte de alimentação e o fluxo de corrente também pode reduzir a diferença de potencial. Por exemplo, o controle da magnitude e direção da corrente garante uma distribuição uniforme da carga.