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MOS 管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)是一種半導體器件,是由金屬、氧化物和半導體晶體組成的結構。

 

工作原理:當對
的柵極施加一定的電壓時 MOS晶體管 ,形成電場,使半導體的電導率發生變化,導致源極和漏極之間的電阻發生變化,從而實現對電流的調製和控制。

主要參數:
1.靜態工作點:源漏電流、柵極電壓;
2.動態參數:更大漏極電流、更大漏極電壓、更大功耗、開關時間和占空比等。

MOS2

 

金屬氧化物半導體

詳細說明:靜態工作點是指
極和漏極之間的電流為零時的工作點。 MOS管源 在特定電壓下, 一般來說,製造商指定的靜態工作點是很合適的工作點。如果偏離靜態工作點,就會影響MOS的性能。

 

動態參數是指MOS在動態工作狀態下的特性。更大漏極電流是MOS能夠承受的更大電流。如果超過這個值,MOS就會損壞。更大漏極電壓是MOS能夠承受的更大電壓。如果超過這個值,就會導致MOS擊穿。更大功耗是MOS能夠承受的更大功率。超過這個值會導致MOS發熱甚優損壞。開關時間是指MOS從關斷到導通所需的時間,佔空比是指MOS關斷時間與總時間的比值,在一些應用中需要特別注意。

 

簡而言之,MOS是一種常用的半導體器件。其主要參數包括靜態工作點和動態參數。需要根據具體的應用場景選擇合適的MOS管型號和參數。

 

 

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